Vorteile von rotierenden Sputtertargets gegenüber planaren Sputtertargets

Ich wurde darum gebeten, zu erklären, weshalb man rotierende Sputtertargets anstelle von planaren Sputtertargets verwenden sollte.

Sicherlich sind einige Kosten mit größeren Targets und neuen Geräten verbunden (davon ausgehend, dass Sie gegenwärtig ein planares System verwenden), aber bei einem Verfahren mit hohem Durchsatz (wie die Roll-to-Roll-Dünnfilmbeschichtung) führen die Vorteile zu geringeren Gesamtbetriebskosten.

• Verglichen mit planaren Targets, besitzen rotierende Targets im Allgemeinen bei gleicher Länge eine größere Oberfläche.

• Rotierende Targets haben eine viel größere Oberfläche, wodurch der Magnetronstrom in der gleichen Zeit auf einen größeren Bereich verteilt werden kann. Dadurch läuft das Target kühler, die Knotenbildung nimmt ab und das Auftreten von Lichtbögen wird vermindert.

1. Da rotierendes Sputtern die Knotenbildung vermindert, können Targets längere Laufzeiten haben.
2. Im Allgemeinen ist mehr Material zum Sputtern auf ein rotierendes Target verfügbar, wodurch die Laufzeit verlängert wird.
3. Die Verwertung von rotierenden Targets ist etwa 80%, im Vergleich zu etwa 30% bei planaren Targets - wodurch der Ausschuss verringert und die Laufzeiten verlängert werden.

• Rotierende Targets eignen sich hervorragend für kontinuierliche Sputterverfahren. Kontinuierliche Verfahren steigern den Durchsatz, da weniger Zeit für das Vorbereiten der Sputterkammer vergeudet wird.

• Rotierende Targets sind kosteneffizienter für Verfahren mit hohem Durchsatz. Sie bieten eine gute Plattform für Verfahren mit langen Laufzeiten, wobei das Risiko für Defekte und Abschaltzeiten geringer ist.

• Planare Targets sind immer noch für Arbeiten an Prototypen oder elementaren Experimenten geeignet, vor allem wenn keine großen Materialmengen auf einmal benötigt werden.

Kotnaktieren Sie unser Team unter folgender E-Mail-Adresse, wenn Sie an einer Diskusion über Sputtertargets interessiert sind: Solar@Indium.com

~Jim

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