用於製造LED的三氯化銦(InCl3)
三氯化銦, 氯化銦（III），或者InCl3 名稱很多，用途也很多，但該材料主要的用途是為CVDcreate an indium precursor for CVD (化學氣相沉積)創造一種銦前體. TMI (三甲基銦) 是銦沉澱的一種前體, 很像鎵沉澱的TMG。 兩種MOCVD前體都在這裏討論: http://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
所以，這裏是銦在LED製造過程中的工藝:
In + Cl --> 氯化銦(III) --> TMI --> LED
化學蒸汽沉澱是銦層沉澱在表面的唯一方法。 物理氣相沉澱，如濺射或蒸發是常用的方法。 这里有我对化学沉淀和物理沉淀工艺作的比较: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
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