用于制造LED的三氯化铟(InCl3)
三氯化铟, 氯化铟（III），或者InCl3 名称很多，用途也很多，但该材料主要的用途是为CVDcreate an indium precursor for CVD (化学气相沉积)创造一种铟前体. TMI (三甲基铟) 是铟沉淀的一种前体, 很像镓沉淀的TMG。 两种MOCVD前体都在这里讨论: http://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
所以，这里是铟在LED制造过程中的工艺:
In + Cl --> 氯化铟(III) --> TMI --> LED
化学蒸汽沉淀是铟层沉淀在表面的唯一方法。 物理气相沉淀，如溅射或蒸发是常用的方法。 这里有我对化学沉淀和物理沉淀工艺作的比较: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
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