2013 SVC 介紹: 在操作溫度下消除濺射靶的粘合應力
我邀請你們在星三，4月24日參加SVC(真空鍍膜機協會)會議的工程技術討論會–我們將討論使用NanoFoil®創建濺射靶又能取得較好操作性能的有趣新方法。
這裏有一點背景知識，如果你們最近幾年在SVC上錯過了一些過去的介紹:NanoFoil®已經被證明能夠在濺射靶的粘著過程中消除CTE(熱膨脹係數)的壓力。根據摘要:
“反應性的多層箔薄被用於在濺射靶安裝過程由靶材和補強板材之間的熱膨脹誤配的係數所引起的應力。由於相當一部分材料(除了最裏面的小量微米)在反應性的多層多層箔薄的粘合過程中仍保持在室溫下，材料在室溫“零應力點”下被粘合。低的粘合能夠降低熱膨脹的應力，使濺射靶裝配的偏差更低。在大多數高溫的大面積粘合的應用中，在粘合後傾斜的靶材會自動地增加應力直至它們又真正恢復平面。這樣可以化合在粘合與平整操作過程中產生的應力。在這篇文章裏，我們將探索在其他溫度下設置“零應力點”以在操作中減少壓力和偏斜。”
如果介紹不能回答你們有關靶材的所有問題，請不要擔心–銦公司小組在那裏樂意和你們交流。你們不會失望的。在那裏相見!
~Jim
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