Étain à haute pureté pour lithographie par UV extrêmes

Indium corporation produit maintenant de l'étain de très haute pureté – consultez : https://www.indium.com/products/metals/tin/ -- et j'aimerais vous expliquer pourquoi nous avons investi dans cette technologie :

Chaque nouvelle génération de puces au silicium a besoin de son Prométhée : la technologie clé qui fournit la longueur d'onde de lumière minimale nécessaire pour imprimer des éléments sur une tranche. Cette séquence d'étapes est utilisée depuis des décennies et est connue sous le nom de lithographie : Générer un faisceau de photons suffisamment lumineux, créer les éléments optiques pour orienter le faisceau vers un masque définissant les caractéristiques, projeter l'image résultante sur une tranche recouverte de résine photosensible, graver le motif dans la tranche et enfin retirer la résine restante pour le prochain processus de fabrication - ce n'est pas aussi facile qu'il y paraît.

C'est la réduction de longueur d'onde qui est au cœur de ce processus, et nous savons que l'industrie des semi-conducteurs a réussi à le faire à de nombreuses reprises parce que nous avons tous entendu parler de la loi de Moore.

Ainsi, comment produisez-vous exactement , avec une luminosité significative, un faisceau de lumière à, disons 13,5 nm, nécessaire pour les procédés à 5 nm et 3 nm ? Jusqu'à récemment, la réponse devait être : "Facile, vous utilisez un synchrotron". Ces accélérateurs de particules sont disponibles partout dans le monde. Divulgâcheur : Ils ne sont que 60, et seuls les instituts de recherche financés par le gouvernement ont les moyens de les construire, de les doter en personnel et de les faire fonctionner.

La prochaine réponse possible pourrait être : "Eh bien, vous pouvez sûrement utiliser une sorte de laser". Le problème est que les lasers à cette longueur d'onde sont un peu chers. À 13,5 nm, nous sommes en présence d’une longueur d'onde de type rayon X "doux". Les lasers sont disponibles, mais ils n'offrent pas ce dont on a besoin.

Viennent les plasmas : Prenez un certain élément, ionisez-le, et vous obtiendrez un plasma qui émet de la lumière autour d'une certaine fréquence, propre à l'élément utilisé. Si vous avez déjà regardé par la fenêtre d'une chambre à pulvérisation en fonctionnement, vous avez vu la lueur violette émise par un plasma d'argon (voir photo ci-dessous).

Ce qui nous ramène finalement à l'étain : La lumière émise par un plasma d'étain a un spectre d'émission autour du pic nécessaire de 13,5 nm. Et, ce qui est crucial, le plasma d'étain offre une grande efficacité de conversion qui permet d'obtenir la luminosité élevée requise.

L'autre bonne nouvelle, c'est que l'étain est un élément dont l'usage est très répandu dans le monde d'aujourd'hui. Dans la seule industrie électronique, il est utilisé dans la majorité des alliages de soudure. Ici, à Indium Corporation, nous travaillons avec l'étain depuis très longtemps.

Aussi, nous avons passé plusieurs années à raffiner l'étain et à pousser sa pureté au-delà du degré normalisé disponible (4N, ou 99,99 %) jusqu'à 5N et plus loin jusqu'à 6N, pour créer le niveau de pureté nécessaire à cette nouvelle application. Indium Corporation est prêt à soutenir cette nouvelle application passionnante qui jouera un rôle essentiel pour maintenir la loi de Moore vivante pendant de nombreuses années.