Rejoignez-moi au SMTA Pan Pacific du 5 au 8 février.

Les amis,

Je présente un exposé, préside une séance technique et anime un atelier technique SMTA Pan Pacific le 6 février 2018 au  Hapuna Beach Prince Resort à Hawaii.

L'article est intitulé "Using Cpk and Cpk Confidence Intervals to Evaluate Stencil Printing", avec mon coauteur Chris Nash d'Indium Corporation. Dans cet article, j'aborderai la façon de calculer les intervalles de confiance lors de l'utilisation des Cpk pour évaluer la qualité de l'impression au pochoir. En comparant les intervalles de confiance des Cpk, on peut déterminer s'il existe ou non une différence statistiquement significative entre différents échantillons de données d'impression au pochoir.

La séance que je préside porte sur les "Matériaux avancés". Les documents de la session sont :

•  "Oxygen Vacancy Migration in MLCCs "par Dock Brown, CRE, DfR Solutions
• · “Update on Cu-Ni/Sn Alloy Composite Solder Paste for Harsh Environments” par Dr Stephanie Choquette, Iowa State University et Iver Anderson, Ames Laboratory (USDOE)
• ·  “Resistivity Stain Analysis of Graphene Coated Fabric for Wearable Electronics” par Dr Martine Simard-Normandine, S. Ferguson, MuAnalysis Inc. et K. Manga, Q.-B. Ho Grafoid

Le sujet de l'atelier est "Soudures pour environnements difficiles". De brèves présentations seront données par certains des participants, suivies d'une séance de questions et réponses. Les participants sont Dwight Howard de Delphi Automotive, Iver Anderson d'Ames Lab, John Evans de l'Université d'Auburn et Prabjit Singh d'IBM.

Nous apprendrons beaucoup. J'espère vous y retrouver !

Merci,

Docteur Ron